<strike id="fugvr"></strike>

    <big id="fugvr"><dl id="fugvr"></dl></big><ol id="fugvr"></ol>

    1. <ol id="fugvr"></ol>

    2. <big id="fugvr"></big>

      <legend id="fugvr"><li id="fugvr"></li></legend>

      廢氣處理設備,除臭設備,有機廢氣處理,除塵設備—深圳宏森環保廢氣處理設備官網
      二維碼

      掃一掃微信咨詢

      半導體工業氮氧化物的廢氣處理

        半導體指的是在常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料,半導體在加工的過程中會產生一種氮氧化物的工業廢氣,今天了解一下關于半導體工業氮氧化物的廢氣處理。

      半導體工業廢氣,氮氧化物的廢氣處理

        氮氧化物分為一氧化二氮(N2O)、一氧化氮 (NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化二氮(N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五氧化二氮(N2O5)等,氮化物遇光、濕或熱變成二氧化氮及一氧化氮,一氧化氮又變為二氧化氮,不同價位的氮化物毒性不同。

        常見的半導體原材料有硅、鍺、砷化鎵等,加工廠在加工期間的主要污染物有一氧化氮 、一氧化二氮、二氧化氮、三氧化二氮、四氧化二氮和五氧化二氮、HF等。

        半導體氮氧化物廢氣采用的燃燒控制技術、煙氣脫硝技術以及爐內噴射吸收劑,工業廢氣處理的NOx一般采用過程后處理,脫除技術又分為干法和濕法兩大類,干法包括催化還原法、催化分解法、吸附法等,干法包括催化還原法、催化分解法、吸附法。

        濕法于干法相比,采用的水處理工藝簡單、吸收劑種類多、操作費用低廉、適應性強等優勢。
       

      相關文章